Detail předmětu
Preparation and Properties of Thin Layers of Materials
FCH-DA_PTVAk. rok: 2023/2024
Terminology; fundamentals of vacuum science; introduction to plasma physics and chemistry; film deposition techniques: vacuum evaporation, sputtering, plasma polymerization, mass spektrometry, laser-enhanced CVD, CVD processes; thin film characterization: film growth, film thickness and deposition rate, scanning probe microscopy (STM, AFM, EFM, MFM, SNOM), mechanical properties (measurement techniques, internal stress, adhesion), spectroscopic ellipsometry and analytical methods (XPS, RBS, ERDA, FTIR).
Jazyk výuky
angličtina
Počet kreditů
0
Garant předmětu
Zajišťuje ústav
Základní literatura
M. Ohring, Materials Science of Thin Films, Academic Press 2002. (EN)
D. Hoffman, B. Singh, J.H. Thomas, Handbook of Vacuum Science and Technology, Academic Press 1998. (EN)
V. L. Mironov, Fundamentals of Scanning Probe Microscopy, NT-MDT 2004. (EN)
H. Bubert, H. Jenett, Surface and Thin Film Analysis, Wiley-VCH, 2002 (EN)
D. Hoffman, B. Singh, J.H. Thomas, Handbook of Vacuum Science and Technology, Academic Press 1998. (EN)
V. L. Mironov, Fundamentals of Scanning Probe Microscopy, NT-MDT 2004. (EN)
H. Bubert, H. Jenett, Surface and Thin Film Analysis, Wiley-VCH, 2002 (EN)
Zařazení předmětu ve studijních plánech
- Program DKAP_CHM_4_N doktorský, 1. ročník, zimní semestr, povinně volitelný
- Program DPAP_CHM_4_N doktorský, 1. ročník, zimní semestr, povinně volitelný