Detail předmětu

Fyzika a chemie plazmatu

FCH-DCO_FNDAk. rok: 2018/2019

Vybrané kapitoly z fyziky a chemie rovnovážného i nerovnovážného plazmatu, jeho diagnostiky a pokročilých aplikací s ohledem na zaměření disertačních prací studentů.

Jazyk výuky

čeština

Počet kreditů

0

Výsledky učení předmětu

Student získá detailní znalosti o vlastnostech plazmatu a soudobé metodologii plazmové chemie související s jeho disertační prací. V rámci závěrečné zkoušky pak musí prokázat širší přehled.

Prerekvizity

Fyzikální chemie - temodynamika, kinetika
Fyzika - pohyb hmotného bodu, elektrické pole a proud, magnetcké pole
Matematika - diferenciální rovnice

Plánované vzdělávací činnosti a výukové metody

Výuka předmětu je realizována formou individuální konzultace. Vyučujícím a studentům je k dispozici e-learningový systém (LMS Moodle).

Způsob a kritéria hodnocení

Student připraví prezentaci na zadané téma v rozsahu cca 30 minut, po níž následuje diskuse v širších souvislostech, opět v rozsahu cca 30 minut.

Osnovy výuky

Vybrané kapitoly z fyziky a chemie plazmatu zaměřené na problematiku disertačních prací studentů:
Termodynamika a kinetika plazmatu
Elementární fyzikální a chemické procesy v plazmatu
Metody diagnostiky plazmatu
Fyzikální a chemické vlastnosti plazmatu
Laboratorní plazma elektrických výbojů v plynech a kapalinách
Pokročilé plazmochemické procesy a technologie

Učební cíle

V přednášce jsou popsány základní vlastnosti plazmatu a současná metodologie plazmové chemie tak, že studenti chemického inženýrství jsou schopni prakticky aplikovat a užívat unikátní vlastnosti plazmatu v takových oborech jako jsou materiálové inženýrství, mikroelektronika, biologie, a makromolekulární, organická, anorganická i analytická chemie. V přednášce je probráno široké spektrum praktických aplikací přičemž je zvláštní pozornost kladena na použití nerovnovážného (Te >> Tn] plazmatu.

Vymezení kontrolované výuky a způsob jejího provádění a formy nahrazování zameškané výuky

Studenti se povinně účastní zkoušek svých kolegů.

Základní literatura

ANDERS, A. Handbook of Plasma Ion Implantation and deposition, 1st ed., New York: John Wiley & Sons, 2000, ISBN 0-471-24698-0 (CS)
ROTH J.R. Industrial Plasma Engineering I. , II., London: CRC Press - Taylor & Francis Group, 1995, ISBN (Vol. 1): 978-0750303187, ISBN (Vol. 2): 978-0750303170 (CS)
SHUL, R.J., PEARTON, S.J. Handbook of Advanced Plasma Processing, 1st ed., Berlin: Springer, 2000, ISBN 978-3-642-56989-0 (CS)

Zařazení předmětu ve studijních plánech