Detail předmětu

Tenké vrstvy

FCH-MCO_TVRAk. rok: 2019/2020

Struktura přednášky zahrnuje definici základních pojmů, základy techniky vakua, úvod do plazmochemie, technologie přípravy vrstev - napařování, rozprašování, plazmová polymerace, využití laserů pro depozice tenkých vrstev, depozice z plynné fáze, charakterizace tenkých vrstev - růst vrstev, tloušťka tenké vrstvy, techniky sondové mikroskopie (STM, AFM, EFM, MFM, SNOM), mechanické vlastnosti (měřící techniky, pnutí, adheze).

Výsledky učení předmětu

Studenti získají základní znalosti o průmyslových technologiích pro přípravu tenkých vrstev, o vybraných analýzách vlastností vrstev a jejich aplikacích. Tyto znalosti mohou využít při zpracování diplomové práce a také později jako technologové a výzkumní pracovníci.

Prerekvizity

Základy chemie a fyziky.

Doporučená nebo povinná literatura

Ohring M.: Materials Science of Thin Films. Academic Press, San Diego 2002. (CS)
M. Ohring, The Materials Science of Thin Films, Academic Press 2001 (CS)
Hoffman D., Singh B., Thomas J. H.: Handbook of Vacuum Science and Technology. Academic Press, San Diego 1998. (CS)
D.M. Hoffman, B. Singh, J.H. Thomas, Handbook of Vacuum Science and Technology, Academic Press 1998 (CS)
Mironov V. L.: Fundamentals of Scanning Probe Microscopy. Tekhnosfera, Moscow 2004. (CS)
N. Inagaki, Plasma Surface Modification and Plasma Polymerization, Technomic 1996 (CS)
Eckertová L.: Fyzika tenkých vrstev. SNTL, Praha 1973. (CS)

Plánované vzdělávací činnosti a výukové metody

Výuka předmětu je realizována formou: Přednáška - 2 vyučovací hodiny týdně. Vyučujícím a studentům je k dispozici e-learningový systém LMS Moodle.

Způsob a kritéria hodnocení

Písemný vstupní test a po jeho úspěšném absolvování (úspěšnost >50%) probíhá ústní zkouška, která hodnotí úroveň základních znalostí studenta z technologií přípravy vrstev, způsobů jejich charakterizace, vlastností a použití tenkých vrstev v rozsahu probíraném na přednášce.

Jazyk výuky

čeština

Osnovy výuky

Úvod / Informační zdroje
Základy techniky vakua
Úvod do fyziky a chemie plazmatu
Fyzikální metody pro přípravu tenkých vrstev
Chemické metody pro přípravu tenkých vrstev
Plazmochemická depozice z plynné fáze
Růst tenké vrstvy
Měření tloušťky tenkých vrstev
Rastrovací sondová mikroskopie
Mechanické vlastnosti tenkých vrstev
Případová studie

Cíl

Cílem kurzu je seznámit studenty s pokročilými technologiemi přípravy a analýzy tenkých vrstev.

Vymezení kontrolované výuky a způsob jejího provádění a formy nahrazování zameškané výuky

Účast na přednášce není povinná.

Zařazení předmětu ve studijních plánech

  • Program NPCP_CHM magisterský navazující

    obor NPCO_CHM , 2. ročník, zimní semestr, 4 kredity, povinně volitelný

  • Program NKCP_CHM magisterský navazující

    obor NKCO_CHM , 2. ročník, zimní semestr, 4 kredity, povinně volitelný

Typ (způsob) výuky

 

Přednáška

26 hod., nepovinná

Vyučující / Lektor