Detail předmětu
Tenké vrstvy
FCH-MC_TVRAk. rok: 2025/2026
Struktura přednášky zahrnuje definici základních pojmů, základy techniky vakua, úvod do plazmochemie, technologie přípravy vrstev - napařování, rozprašování, plazmová polymerace, využití laserů pro depozice tenkých vrstev, depozice z plynné fáze, charakterizace tenkých vrstev - růst vrstev, tloušťka tenké vrstvy, techniky sondové mikroskopie (STM, AFM, EFM, MFM, SNOM), mechanické vlastnosti (měřící techniky, pnutí, adheze).
Jazyk výuky
Počet kreditů
Příslušnost k typu studijního programu
Garant předmětu
Zajišťuje ústav
Vstupní znalosti
Způsob zakončení předmětu a pravidla hodnocení studentů
Účast na přednášce není povinná.
Učební cíle
Studenti získají základní znalosti o průmyslových technologiích pro přípravu tenkých vrstev, o vybraných analýzách vlastností vrstev a jejich aplikacích. Tyto znalosti mohou využít při zpracování diplomové práce a také později jako technologové a výzkumní pracovníci.
Základní literatura
L. Eckertová, Fyzika tenkých vrstev, SNTL 1973 (CS)
M. Ohring, Materials Science of Thin Films, Academic Press 2002 (CS)
V. L. Mironov, Fundamentals of Scanning Probe Microscopy, NT-MDT 2004 (CS)
Elearning
Zařazení předmětu ve studijních plánech
Typ (způsob) výuky
Přednáška
Vyučující / Lektor
Osnova
2. Základy techniky vakua
3. Úvod do fyziky a chemie plazmatu
4. Fyzikální metody pro přípravu tenkých vrstev
5. Chemické metody pro přípravu tenkých vrstev
6. Plazmochemická depozice z plynné fáze
7. Růst tenké vrstvy
8. Měření tloušťky tenkých vrstev
9. Rastrovací sondová mikroskopie
10. Mechanické vlastnosti tenkých vrstev
11. Případová studie
12. Případová studie
13. Písemný test, návštěva laboratoří
Konzultace v kombinovaném studiu
Vyučující / Lektor
Elearning